UV光解除臭裝置
工作機理：
UV光解是指廢氣成分在高能紫外線的作用下，逐步氧化成低分子中間產物最終生成CO2、H2O及其他的離子如NOX、SO2等。有機物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后進一步發生的化學反應。后者是周圍環境存在的某些物質吸收光能成激發態，再誘導一系列有機污染的反應。間接光降解對環境中難生物降解的有機污染物更為重要。
UV光解采用C-波段的紫外光，有足夠的能量來產生自由基，引發一系列復雜的物理、化學反應。其中-C波段紫外線主要用來去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、樹脂、等氣體及消毒滅菌。
工藝特點：
高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及其他惡臭氣體，脫臭凈化效率最高可達95%以上。
無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。
適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行極其穩定可靠，但不適合高粉塵的現場。
運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻極低＜50pa,可節約大量排風動力能耗。
無需預處理：惡臭工業廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作氣體溫度在攝氏-20℃~70℃之間，pH在3~11，濕度在30%~99%之間均可正常工作。
返回列表